容積10L
空載調(diào)節(jié)范圍-60-98℃
恒溫精度±0.5℃
制冷量380-2600
實(shí)用開口徑Φ200(mm)
低溫恒溫槽應(yīng)用范圍: 對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等
低溫恒溫槽使用注意事項: 1.使用前低溫恒溫槽內(nèi)應(yīng)加入液體介質(zhì),且加入的液體介質(zhì)頁面不能低于工作臺板20; 2.當(dāng)要求低溫恒溫槽的工作溫度低于5攝氏度時,液體介質(zhì)一般選用酒精;工作溫度在5~80攝氏度時,液體介質(zhì)一般選用純凈水,工作溫度在80~90攝氏度時,液體介質(zhì)一般選用水油混合液,工作溫度在90~100攝氏度時,液體介質(zhì)一般選用油

智能PID數(shù)顯溫控,精度控制在±0.2℃。 與液體接觸部分全部采用不銹鋼,具備防腐蝕、防銹、防低溫液體污染功能。

低溫恒溫反應(yīng)浴是參照日本東京理化器械株式會社的產(chǎn)品生產(chǎn)的一種新型實(shí)驗儀器,特別適用于密閉條件下的有機(jī)合成及其他化學(xué)反應(yīng),是現(xiàn)代化學(xué)、生物制藥及化學(xué)制藥等實(shí)驗、大專院校、科研院所*的設(shè)備

底部帶有磁力攪拌,可帶動槽內(nèi)磁力攪拌,使溫度充分均勻,
鄭州杜甫儀器廠本著“以信為本、以誠待人、以穩(wěn)求實(shí)、共同發(fā)展”的經(jīng)營方針,提供優(yōu)良的產(chǎn)品、良好的服務(wù)來贏得市場用戶的信賴。
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