低溫恒溫槽應(yīng)用范圍： 對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等
智能PID數(shù)顯溫控，精度控制在±0.2℃。  與液體接觸部分全部采用不銹鋼，具備防腐蝕、防銹、防低溫液體污染功能。

底部帶有磁力攪拌，可帶動(dòng)槽內(nèi)磁力攪拌，使溫度充分均勻，

底部設(shè)有加熱系統(tǒng)，利用加熱平衡制冷，避免了壓縮機(jī)的頻繁啟動(dòng)，增加了壓縮機(jī)的壽命

低溫恒溫反應(yīng)浴是參照日本東京理化器械株式會社的產(chǎn)品生產(chǎn)的一種新型實(shí)驗(yàn)儀器，特別適用于密閉條件下的有機(jī)合成及其他化學(xué)反應(yīng)，是現(xiàn)代化學(xué)、生物制藥及化學(xué)制藥等實(shí)驗(yàn)、大專院校、科研院所*的設(shè)備
鄭州杜甫儀器廠本著“以信為本、以誠待人、以穩(wěn)求實(shí)、共同發(fā)展”的經(jīng)營方針，提供優(yōu)良的產(chǎn)品、良好的服務(wù)來贏得市場用戶的信賴。
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