低溫恒溫槽應(yīng)用范圍： 對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等
低溫恒溫槽使用注意事項： 1.使用前低溫恒溫槽內(nèi)應(yīng)加入液體介質(zhì)，且加入的液體介質(zhì)頁面不能低于工作臺板20; 2.當(dāng)要求低溫恒溫槽的工作溫度低于5攝氏度時，液體介質(zhì)一般選用酒精；工作溫度在5～80攝氏度時，液體介質(zhì)一般選用純凈水，工作溫度在80～90攝氏度時，液體介質(zhì)一般選用水油混合液，工作溫度在90～100攝氏度時，液體介質(zhì)一般選用油

低溫恒溫槽一起應(yīng)該安置在通風(fēng)干燥處后背及兩側(cè)離開障礙物300 距離。 使用完畢后，所有開關(guān)置關(guān)機狀態(tài)，方可拔下電源插頭。

智能PID數(shù)顯溫控，精度控制在±0.2℃。  與液體接觸部分全部采用不銹鋼，具備防腐蝕、防銹、防低溫液體污染功能。

低溫恒溫反應(yīng)浴是參照日本東京理化器械株式會社的產(chǎn)品生產(chǎn)的一種新型實驗儀器，特別適用于密閉條件下的有機合成及其他化學(xué)反應(yīng)，是現(xiàn)代化學(xué)、生物制藥及化學(xué)制藥等實驗、大專院校、科研院所*的設(shè)備
鄭州杜甫儀器廠秉著"務(wù)實、創(chuàng)新、和諧、致遠(yuǎn)"的企業(yè)精神，以"客戶為先，質(zhì)量為本，服務(wù)至上"的企業(yè)
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