低溫恒溫槽應(yīng)用范圍： 對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等
低溫恒溫槽使用注意事項(xiàng)： 1.使用前低溫恒溫槽內(nèi)應(yīng)加入液體介質(zhì)，且加入的液體介質(zhì)頁面不能低于工作臺板20; 2.當(dāng)要求低溫恒溫槽的工作溫度低于5攝氏度時，液體介質(zhì)一般選用酒精；工作溫度在5～80攝氏度時，液體介質(zhì)一般選用純凈水，工作溫度在80～90攝氏度時，液體介質(zhì)一般選用水油混合液，工作溫度在90～100攝氏度時，液體介質(zhì)一般選用油

低溫恒溫反應(yīng)浴是參照日本東京理化器械株式會社的產(chǎn)品生產(chǎn)的一種新型實(shí)驗(yàn)儀器，特別適用于密閉條件下的有機(jī)合成及其他化學(xué)反應(yīng)，是現(xiàn)代化學(xué)、生物制藥及化學(xué)制藥等實(shí)驗(yàn)、大專院校、科研院所*的設(shè)備

特點(diǎn)：采用全封閉壓縮機(jī)制冷，具有降溫速度快、噪音低、性能、質(zhì)量等特點(diǎn)。

底部設(shè)有加熱系統(tǒng)，利用加熱平衡制冷，避免了壓縮機(jī)的頻繁啟動，增加了壓縮機(jī)的壽命
鄭州杜甫儀器廠真誠的希望與各位朋友、中外客商，發(fā)展友誼、建立長期業(yè)務(wù)合作伙伴關(guān)系，衷心歡迎來我公司、考察、洽談，以求得共同輝煌！
http://www.imingrentang.com